Optec

Бесплатный звонок: 8 800 2000 567
en
Бесплатный звонок: 8 800 2000 567

Электронно-лучевая литография

Электронно-лучевая литография

Электронно-лучевая литография

  • Raith150 TWO

    Raith150 TWO

    Raith 150 TWO — это компактный электронно-лучевой литограф ультравысокого разрешения, предназначенный для центров коллективного пользования и опытно-конструкторских отделов предприятий, работающих в области нанотехнологий.

  • Raith CHIPSCANNER

    Raith CHIPSCANNER

    Raith CHIPSCANNER — это электронно-лучевой литограф для сканирования чипов и получения топологии в векторном формате CAD с ультравысоким пространственным разрешением и учетом всех элементов топологии — по площади и послойно.

  • Raith eLINE Plus

    Raith eLINE Plus

    Raith eLINE Plus — система, объединяющая в себе функционал передового электронно-лучевого литографа ультравысокого разрешения, расширенные возможности аналитического автоэмиссионного электронного микроскопа и инструменты рабочей станции для наноинжиниринга. Предназначена для научных центров и центров коллективного пользования, специализирующихся на разработках и исследованиях в сфере физики, оптики, фотоники, микро, наноэлектроники и нанотехнологий.

  • Raith ELPHY MultiBeam

    Raith ELPHY MultiBeam

    Raith ELPHY MultiBeam — это электронно-литографическая приставка, разработанная для широкого спектра задач рабочих станций FIB-SEM, а также для контроля литографических и аналитических приложений.

  • Raith ELPHY Plus

    Raith ELPHY Plus

    Raith ELPHY Plus — это электронно-литографическая приставка высокого класса для растрового электронно-лучевого микроскопа, оборудованного термоавтоэмиссионным катодом, для ионно-лучевого микроскопа, или рабочей станции FIB-SEM. Архитектура приставки построена на технологии DSP и оптимизирована для стабильной работы на высоких скоростях генератора паттернов и экспонирования.

  • Raith ELPHY Quantum

    Raith ELPHY Quantum

    Raith ELPHY Quantum — это электронно-литографическая приставка для растрового электронно-лучевого или ионно-лучевого микроскопа. Универсальное бюджетное решение, позволяющее оборудовать РЭМ базовыми возможностями электронно-лучевой литографии: дизайн паттернов, работа с параметрами экспонирования, возможность выравнивания по маркерам при наложении литографических слоев для процессов типа step&repeat.

Показать больше

Пресс-центр

Читать все материалы

О компании

Читать далее
. . .

Заинтересованы в сотрудничестве?

Свяжитесь с нами по телефону: 8–800–2000–567 или заполните форму обратной связи:

Отправить
x